오승주 교수 연구팀, 양자점 적용 가능한 고해상도 Photolithography 기술 개발
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작성자 관리자 작성일 25-10-17 11:32본문
□ 고려대학교 신소재공학부 오승주 교수 연구팀은 양자점 적용이 가능한 포토레지스트 (Photoresist; PR) 개발하고, 이를 이용해 미세 패턴 어레이 제작에 성공했다. 고려대학교 신소재공학부 박준혁 연구원, 안준혁 연구원, 오성근 연구원이 공동 제1저자로 참여하였으며, 해당 성과는 세계적인 과학저널 Materials Today (IF:22.0) 8월 26일자 온라인판에 게재되었다.
(논문 링크: https://doi.org/10.1016/j.mattod.2025.08.018)
□ 양자점은 우수한 광학적, 전기적 특성으로 차세대 반도체 소재로 주목받고 있으나, 상용 PR 기반 패터닝은 표면 손상과 리간드 탈착 문제로 직접 공정이 어려웠다.
□ 연구팀은 광반응성 화합물, 양자점 표면 안정제, 표면 리간드를 조합한 ‘양자점 표면 안정화 기반 기능성 PR’을 개발해, 양자점의 물성 안정성을 유지하면서 고해상도 패터닝을 구현했다.
□ 이 기술은 4,200 PPI 이상의 고해상도 패턴 형성에 성공했으며, 이를 바탕으로 고성능 전자, 광전자 소자를 제작을 실현했다.
□ 본 연구는 과학기술정보통신부와 한국연구재단의 지원을 받아 수행되었으며, 향후 AR·VR 디스플레이, 헬스케어 센서, 차세대 광전자 소자 등 다양한 분야에서의 적용이 기대된다.

(양자점/나노결정 적용 가능한 기능성 포토레지스트 (F-PR) 구성 및 양자점/나노결정 패터닝 공정도)
□ 본 연구 성과는 다음과 같은 주요 언론 매체를 통해 보도되며 대외적으로도 높은 관심을 받고 있다:
YTN 사이언스: (https://www.lecturernews.com/news/articleView.html?idxno=188402)
뉴스 TNT: (https://www.newstnt.com/news/articleView.html?idxno=539934)
아시아타임즈: (https://www.asiatime.co.kr/article/20251001500425)
Metro 신문: (https://www.metroseoul.co.kr/article/20251001500523)
이데일리:
(https://www.edaily.co.kr/News/Read?newsId=04011446642328656&mediaCodeNo=257&OutLnkChk=Y)
뉴스프리존:
(https://www.newsfreezone.co.kr/news/articleView.html?idxno=650447)
메일일보: (https://www.m-i.kr/news/articleView.html?idxno=1288952)
CNB 뉴스: (https://www.cnbnews.com/news/article.html?no=753711)
베르타스알파:
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