오승주 교수 연구팀, 양자점 적용 가능한 고해상도 Photolithography 기술 개발
□ 고려대학교 신소재공학부 오승주 교수 연구팀은 양자점 적용이 가능한 포토레지스트 (Photoresist; PR) 개발하고, 이를 이용해 미세 패턴 어레이 제작에 성공했다. 고려대학교 신소재공학부 박준혁 연구원, 안준혁 연구원, 오성근 연구원이 공동 제1저자로 참여하였으며, 해당 성과는 세계적인 과학저널 Materials Today (IF:22.0) 8월 ..
작성일 2025-10-17